arrow_drop_down
Описание
Травление нейтральным лучом NBE Наноразмерный полупроводниковый САПР с низким уровнем повреждений
Автор
ID файла
23128939
Формат файла
JPG
Максимальный размер
5000 x 3000 px
векторные иллюстрацииграфический дизайнвысокое разрешениетехнический чертежгеометрические формыгеометрический рисуноксовременный стильшаблон плакататворческий баннервекторный элементцифровое искусствосовременная эстетикатворческая графикачистая линия искусствамасштабируемая графикакреативный ресурспрофессиональный активкоммерческие коммерческие запасыстудийная палитракоммерческий активчертеж сапркорпоративный шаблонавторские работыдекоративная графикаминималистичный визуальныйточное черчениепроцедурный дизайнредакционный макетвектор тонкой линииграфическое изображение презентациитехнологическая темавекторное черчениетехническая схемаинструмент для анизотропного травлениячертеж инструмента для чистых помещенийсапр по микроэлектроникесхема нанопроизводстваоптомеханический чертеж сапрплазменная технология нанесения рисункапроизводство полупроводниковобработка тонких пленоксхема вакуумной камерысапр для обработки пластинотверстие нейтрализатора углеродатравление без накопления зарядаустройство для травления полупроводников nbecad для травления нейтральным лучомизготовление полупроводников толщиной менее 5 нм
Ключевые слова
Мы также рекомендуем:
Зарегистрируйтесь, чтобы купить и скачать
это изображение в высоком разрешении.
это изображение в высоком разрешении.
Цены на
стандартную лицензиюarrow_drop_down
для
физлицarrow_drop_down
info_outlineПодписки info_outline
240 ₽
за скачивание одного изображения в месяц
2,400 ₽ в месяц
Пакеты изображений info_outline
600 ₽
за скачивание одного изображения штучно
600 ₽ за пакет
Зарегистрируйтесь, чтобы купить и скачать
это изображение в высоком разрешении.
это изображение в высоком разрешении.
Уже есть аккаунт? Войти
