arrow_drop_down
Описание
Химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении APCVD Непрерывный ленточный CAD
Автор
ID файла
23128870
Формат файла
JPG
Максимальный размер
5000 x 3000 px
векторные иллюстрацииграфический дизайнвысокое разрешениегеометрический рисуноксовременный стильтворческий баннерцифровое искусствосовременная эстетикачистая линия искусствамасштабируемая графикакоммерческие коммерческие запасыстудийная палитракоммерческий активчертеж сапркорпоративный шаблонавторские работыточное черчениепроцедурный дизайнредакционный макетвектор тонкой линииграфическое изображение презентациитехнологическая темавекторное черчениеточный чертеж макетаобработка кремниевых пластинсхема микроэлектроникиусовершенствованный полупроводниковый инструментнанотехнологии чистых помещенийизготовление интегральных схемсхема производства микрочиповтехнология нанопроизводствасапр полупроводникового оборудованиявектор полупроводникового оборудованиясапр для упаковки полупроводниковчистая комната для изготовления пластинсапр печи apcvdатмосферное давление cvdтелеметрия скорости лентыленточная печь непрерывного действиякамера cvd-реакторананесение диэлектрического слояизготовление мэмс-устройствнанесение фотоэлектрических тонких пленокинструмент для литейного производства полупроводниковосаждение оксида кремнияпроизводство солнечных элементовобработка солнечных пластинразработка тепловых процессов
Ключевые слова
Мы также рекомендуем:
Зарегистрируйтесь, чтобы купить и скачать
это изображение в высоком разрешении.
это изображение в высоком разрешении.
Цены на
стандартную лицензиюarrow_drop_down
для
физлицarrow_drop_down
info_outlineПодписки info_outline
240 ₽
за скачивание одного изображения в месяц
2,400 ₽ в месяц
Пакеты изображений info_outline
600 ₽
за скачивание одного изображения штучно
600 ₽ за пакет
Зарегистрируйтесь, чтобы купить и скачать
это изображение в высоком разрешении.
это изображение в высоком разрешении.
Уже есть аккаунт? Войти
