arrow_drop_down
Описание
Схема полупроводникового нанопроизводства для фотолитографии с использованием оптического пучка в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне EUV
Автор
ID файла
23128459
Формат файла
JPG
Максимальный размер
5000 x 3000 px
Графический ЭлементНанотехнологияВизуальная Идентичностьвекторные иллюстрацииграфический дизайнвысокое разрешениетехнический чертежгеометрические формыгеометрический рисуноккорпоративныйсовременный стильшаблон плакататворческий баннервекторный элементцифровое искусствосовременная эстетикатворческая графикачистая линия искусствамасштабируемая графикакреативный ресурспрофессиональный активкоммерческие коммерческие запасыстудийная палитракоммерческий активчертеж сапркорпоративный шаблонавторские работыдекоративная графикаминималистичный визуальныйточное черчениепроцедурный дизайнредакционный макетвектор тонкой линииграфическое изображение презентациитехнологическая темавекторное черчениетехническая схемалинейная графикамонохромный элементпроизводство полупроводниковасферическая оптикафотолитография euvсапр интегральной схемылазерный плазменный источниклитография микрочиповмногослойное зеркалопоследовательность оптических лучейизготовление кремниевых пластин
Ключевые слова
Мы также рекомендуем:
Зарегистрируйтесь, чтобы купить и скачать
это изображение в высоком разрешении.
это изображение в высоком разрешении.
Цены на
стандартную лицензиюarrow_drop_down
для
физлицarrow_drop_down
info_outlineПодписки info_outline
240 ₽
за скачивание одного изображения в месяц
2,400 ₽ в месяц
Пакеты изображений info_outline
600 ₽
за скачивание одного изображения штучно
600 ₽ за пакет
Зарегистрируйтесь, чтобы купить и скачать
это изображение в высоком разрешении.
это изображение в высоком разрешении.
Уже есть аккаунт? Войти
